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噴涂設(shè)備

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真空等離子清洗機(jī)的作用原理是什么?
  • 作者:中氟科技
  • 發(fā)布時(shí)間:2020-10-24
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  • 來源:等離子清洗機(jī)
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  真空是一種依靠等離子體活性物質(zhì)去除表面污漬的清洗設(shè)備。屬于電子行業(yè)干洗。在真空泵的制造過程中,為了滿足清洗的需要,制造了一定的真空條件。等離子體清洗主要需要通過特定氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合,如低壓氣體輝光。

真空等離子清洗機(jī)的作用原理是什么?

  簡而言之,真空等離子清洗機(jī)需要在真空(通常在100Pa左右)下進(jìn)行,因此需要一臺(tái)真空泵。主要工藝包括:先將工件固定在真空室中,啟動(dòng)真空泵等設(shè)備的真空放電至10Pa左右;然后將等離子清洗氣體引入真空室(根據(jù)氧、氫、氬、氮等不同的清洗材料),保持壓力在100Pa左右;

  在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間加高頻電壓,使氣體滲透到等離子體中,等離子體完全被真空室覆蓋后,清洗過程將持續(xù)幾十秒到幾分鐘。整個(gè)過程依賴于等離子體在電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)和對(duì)被處理物體表面的轟擊。大多數(shù)物理清洗過程需要高能量和低壓力。

  原子和離子的最大速度是在表面被轟擊之前達(dá)到的。因?yàn)樗鼘⒓铀俚入x子體,它需要高能量,所以等離子體中的原子和離子可以更快。低壓是增加原子碰撞前平均距離的必要條件,即平均自由距離越長,路徑越長,離子轟擊待清洗表面的概率越高。因此,實(shí)現(xiàn)了表面處理、清洗和蝕刻的效果(清洗過程在一定程度上是一個(gè)輕微的蝕刻過程),清洗后,污物和氣體排出,空氣恢復(fù)到正常大氣壓。

  清洗過程中,真空泵控制真空室時(shí),氣體流量決定真空室的發(fā)光顏色:顏色重,真空度低,氣體流量大;真空度過高,氣體流量過小,真空泵的真空度根據(jù)需要的處理效果確定。是一種適合于單片電路、集成電路清洗的等離子清洗機(jī)。它可用于清潔半導(dǎo)體、厚膜電路、預(yù)包裝元件、硅蝕刻、真空電子、連接器和繼電器。還可用于塑料、橡膠、金屬、陶瓷等材料的表面活化及科學(xué)實(shí)驗(yàn)。

【本文標(biāo)簽】: 真空等離子清洗機(jī)作用原理
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